IRChNUT
Електронний архів Національного університету "Чернігівська політехніка"
Застосування газорозрядної плазми тліючого розряду в процесах отримання тонкоплівкових металопокриттів
ISSN 2415-363X
- Головна сторінка IRChNUT
- →
- МАТЕРІАЛИ КОНФЕРЕНЦІЙ
- →
- Комплексне забезпечення якості технологічних процесів та систем (КЗЯТПС)
- →
- Комплексне забезпечення якості технологічних процесів та систем (КЗЯТПС – 2018)
- →
- Тези доповідей VІІІ Міжнародної науково-практичної конференції (м. Чернігів , 10–12 травня 2018 р.)
- →
- Перегляд матеріалів
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.
Показати скорочений опис матеріалу
| dc.contributor.author | Болотов, Г. П.
|
|
| dc.contributor.author | Болотов, М. Г.
|
|
| dc.contributor.author | Прибитько, І. О.
|
|
| dc.contributor.author | Бадай, М.В.
|
|
| dc.date.accessioned | 2019-05-29T12:30:48Z | |
| dc.date.available | 2019-05-29T12:30:48Z | |
| dc.date.issued | 2018 | |
| dc.identifier.uri | http://ir.stu.cn.ua/123456789/17730 | |
| dc.description | Болотов, Г. П. Застосування газорозрядної плазми тліючого розряду в процесах отримання тонкоплівкових металопокриттів / Г. П. Болотов, М. Г. Болотов, І. О. Прибитько, М. В. Бадай // Комплексне забезпечення якості технологічних процесів та систем (КЗЯТПС – 2018) : матеріали тез доповідей VІІІ міжнар. наук.- практ. конференції (м. Чернігів , 10–12 травня 2018 р.) : у 2-х т.– Чернігів : ЧНТУ, 2018. – Т. 2. – С. 85. | en_US |
| dc.description.abstract | Тонкі металеві плівки знаходять широке застосування в різних галузях сучасної промисловості. Найбільшого розповсюдження тонкоплівкові елементи отримали, насамперед, в технологічних процесах електроніки при виготовленні, наприклад, напівпровідникових приладів, в лазерній та нелінійній оптиці для надання поляризаційних, просвітлюючих або ж дзеркальних властивостей оптичним елементам, в механіці для отримання функціональних антикорозійних, зносостійких покриттів, тощо. Проблема отримання структур у вигляді тонких металевих плівок є чи не найактуальнішою в мікроелектроніці при виготовленні інтегральних схем. | en_US |
| dc.language.iso | uk | en_US |
| dc.publisher | Чернігів : ЧНТУ | en_US |
| dc.subject | газорозрядна плазма | en_US |
| dc.subject | тонкоплівкові металопокриття | en_US |
| dc.subject | CVD | en_US |
| dc.subject | РVD | en_US |
| dc.title | Застосування газорозрядної плазми тліючого розряду в процесах отримання тонкоплівкових металопокриттів | en_US |
| dc.type | Working Paper | en_US |
