Показати скорочений опис матеріалу
dc.contributor.author | Волошенко, В. В. | |
dc.contributor.author | Бочаров, Д. В. | |
dc.contributor.author | Нагорна, І. В. | |
dc.date.accessioned | 2021-11-10T12:42:24Z | |
dc.date.available | 2021-11-10T12:42:24Z | |
dc.date.issued | 2021 | |
dc.identifier.uri | http://ir.stu.cn.ua/123456789/24306 | |
dc.description | Волошенко, В. В. Дослідження блокування дифузійних процесів при виготовленні та експлуатації термоелементів / В. В. Волошенко, Д. В. Бочаров ; наук. кер. І. В. Нагорна // Новітні технології у науковій діяльності і навчальному процесі : зб. тез Всеукр. наук.-практ. конф. студентів, аспірантів та молодих учених (м. Чернігів, 18-19 берез. 2021 р.) : збірник тез доп. – Чернігів : НУ «Чернігівська політехніка», 2021. – С. 30. | en_US |
dc.description.abstract | Запропонований спосіб блокування дифузійних процесів при виготовленні та експлуатації термоелементів відрізняється тим, що бар’єрний прошарок із хрому створюється на попередньо механічно обробленій поверхні міді термічним випаровуванням у вакуумі із наступним бомбардуванням цього шару іонами аргону, які отримуються в плазмі тліючого розряду при тиску аргону порядку 10-13,3 Па. Такий спосіб дозволяє досягти блокування дифузії міді в напівпровідник при температурно-часових умовах виготовлення термоелементів та їх експлуатації. | en_US |
dc.language.iso | uk | en_US |
dc.publisher | Чернігів : НУ «Чернігівська політехніка» | en_US |
dc.subject | дослідження | en_US |
dc.subject | блокування | en_US |
dc.subject | експлуатація | en_US |
dc.subject | термоелемент | en_US |
dc.subject | дифузійний процес | en_US |
dc.title | Дослідження блокування дифузійних процесів при виготовленні та експлуатації термоелементів | en_US |
dc.type | Working Paper | en_US |